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| 正面铭文 | M 2010 A. A. |
| 背面描述 | The entire field is covered with a dense, Op-art inspired pattern of closely spaced concentric wavy and chevron lines in high relief, creating a strong optical illusion of undulating movement across the surface. No lettering or figurative elements are present; the design fills the field edge to edge. |
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| 铸造机构 | 登录 以查看详情 |
| 铸造量 | 2010 M - 40 |
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